| 申购单号： | CB102992024000004 | 签约时间： | 发布竞价结果后7天内签约合同 |
| 申购主题： | 反应离子刻蚀机 | 送货时间： | 合同签订后7天内送达 |
| 采购单位： | 江苏大学 | 安装要求： | 免费上门安装（含材料费） |
| 报价要求： | A | 收货地址： | 江苏省/镇江市/京口区/**** |
| 发票类型： | 增值税专用发票 | 币种： | 人民币 |
| 预算： | 450000.0 | 付款方式： | 货到验收合格后付款 |
| 备注说明： | None |
| 采购内容 | 数量 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 |
| 反应离子刻蚀机 | 1.0台 | 450000.0 | 创世威纳 | DISC-RIE-601 | 1.设备主要原理与功能设备利用射频天线，通过感应耦合方式在放电腔中产生高密度等离子体，刻蚀工作台同时引入射频偏压，在射频偏压作用下，等离子体垂直向下对未被掩蔽的被刻蚀材料表面进行物理轰击，并与材料表面发生化学反应，达到对样品进行化学物理相结合刻蚀的目的。 设备刻蚀材料广泛，包括并不限于单晶硅、非晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、TaN、Ta、Ti、W、Mo、聚合物等。设备采用全自动化控制。2.设备主要技术指标 2.1腔体尺寸：Φ300mm*H300mm，经氧化处理的铝质桶形卧式结构，上盖自动开闭 2.2极限真空度：≤2*10-4Pa； 2.3静态升压：系统停泵关机后12小时后，真空度≤5Pa 2.4系统进清洗充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气抽至5*10-3Pa时间小于15min，至9*10-4Pa≤40min。 2.5射频阴极尺寸：Φ200mm。 2.6刻蚀均匀性：≤±5%（Φ6英寸） 2.7主要工艺气体配置：SF6、CF4、O2、Ar（视具体刻蚀工艺）★2.8电源配置:耦合电极（上电极）：13.56MHz，1000W，自动匹配；偏压电极（下电极）：13.56MHz，600W，自动匹配 2.9包含自动压力控制系统★2.10刻蚀距离自动调节范围：60mm-120mm，调节精度：1mm 2.11水冷工作台温度：10℃~35℃ 2.12控制方式：基于PLC及工控机的全自动、半自动控制方式，包含安全报警系统3.设备主要配置 3.1真空刻蚀腔体、样品架系统、一体机架、辅助设施，1套 3.2复合分子泵1台，抽速600L/s 3.3直联旋片式真空泵1台，抽速8L/s 3.4超高真空电动调节插板阀1台，Φ150mm 3.5真空测量系统1套 3.6自动压力控制系统1套，含薄膜真空计3.7射频电源及自动匹配器：1000W，1套；600W，1套 3.8质量流量控制器：6台 3.9工艺气路：6条 3.10射频耦合电极及射频引入器1套 3.11可调距离射频阴极及射频引入器1套 3.12自动控制系统1套。PLC及模块、工控机、显示器。 3.13刻蚀台冷却水机1台★3.14系统冷却循环随机及空气压缩机：各1台 | 1、供应商投标时必须提供所报设备的品牌和型号（品牌和型号均需提供），如不填写视为不满足；2、设备免费质保期：整机质保1年，设备要求免费送货上门、免费安装调试、保修期内免费上门保修。修期内，接到报修电话后，我司将在4小时内做出维修方案决定并提出解决方案。如8小时内无法电话解决问题，维修工程师将在2个工作日内到达现场（含节假日），并在2个工作日（含节假日）内解决问题或提出明确解决方案；3、设备必须原厂包装，必须当用户面拆封；4、原则上不接受物流和快递送货。如采用物流和快递送货的必须在报价说明中注明，申购用户认可的，方可成交；5、其他按行业标准提供服务； | |
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